中国科学技术大学吴思教授应邀作《光响应高分子材料：从光刻胶到可逆粘合剂》专题讲座
2024年11月14日，中国科学技术大学(University of Science and Technology of China)吴思教授受微纳高分子与界面科学课题组邀请，到浙江理工大学化学与化工学院、浙江省高分子材料表界面科学重点实验室进行学术交流，并在浙江理工大学下沙校区19-531多功能厅作题为《光响应高分子材料：从光刻胶到可逆粘合剂》专题讲座。课题组及学院相关专业师生积极参与本次学术讲座。
吴思教授先是简单介绍了如何利用光响应的小分子基元区构筑光响应高分子体系，以及光响应高分子的响应波长和拓扑结构的设计。然后，吴教授展示了光响应高分子在纳米压印方面的研究结果。为了设计出与传统纳米压印光刻胶原理不同、具有缺陷纠错功能的光刻胶，吴教授团队将偶氮苯引入高分子链，制造出了具有光致可逆固液转变性能的光刻胶。然后，吴教授团队发明了一种可纠错的纳米压印方法——可逆光压印法，可以实现缺陷纠错以及降低压印图案的粗糙度。最后，吴教授介绍了可逆光刻胶在微纳加工中的普适性以及利用光响应高分子开发的可逆粘合剂及其在柔性智能材料领域的潜在应用。
在最后的讨论环节，学院及课题组师生与吴思教授就相关问题积极交流探讨，收获颇丰。
吴教授简介：吴思，中国科学技术大学教授，国家杰出青年科学基金获得者，曾在德国马普高分子所担任课题组组长，于2005年在中国科大获学士学位，并在中德联合培养博士生项目的资助下在德国马普高分子所和中国科大进行研究，于2010年获得博士学位。2010到2012年，在德国马普高分子所做博士后。2012年到2018年，在德国马普高分子所独立领导课题组开展光响应高分子的研究。入选了国家高层次人才计划后，于2018年回到中国科大工作。主持的基金包括5项德国的科研基金、国家自然科学基金重点国际(地区)合作研究项目和面上项目等。指导的学生有两人成为了四青人才，有多人成为了教授或副教授。研究方向为光刻胶、光响应高分子，涉及到高分子的合成、高分子光化学机理研究和潜在应用探索，设计了纳米压印光刻胶、可修复涂层、可逆粘合剂等材料。作为通讯作者发表了2篇Nat.Chem.、2篇NatCommun.、9篇Adv. Mater.、2篇Angew. Chem.Int. Ed.、1篇J.Am.Chem.Soc.、5篇Adv.Funct.Mater.等文章。
